这款耐高温存储设备的中心在于其共同的制作资料——氮化铝钪（AIScN）。据研讨小组成员Deep Jariwala介绍，氮化铝钪具有十分超卓的化学稳定性，其强壮的化学键能在高温下坚持结构的完整性和功能性，这使得该设备在面临高温挑战时展现出超凡的耐用性。

  设备的内部结构采用了“金属-绝缘体-金属”的经典规划，其间，一层45nm厚的氮化铝钪（AIScN）作为绝缘层，奇妙地将金属镍电极和金属铂电极结合在一起，这层氮化铝钪的厚度是设备成功的要害。

  Jariwala解说说：“氮化铝钪的厚度需通过精心操控，太薄会导致资料在高温下过于活泼而退化，而太厚则会削弱其铁电开关功能，从而影响设备的工作效率。”